MEMBRANA VONTRON ULP21-4040 PER OSMOSI INVERSA

Descrizione

VONTRON ULP21-4040 MEMBRANA PER OSMOSI INVERSA - ULTRA LOW PRESSURE

Le membrane della serie ULP sono membrane composte in poliammidi aromatiche con proprietà di funzionamento a bassissima pressione, di recente sviluppo da Vontron Technology Co., Ltd.
La membrana ULP21-4040 permette di raggiungere un elevato flusso di permeato ed una elevata eiezione del sale; trova anche applicazione nella desalinazione delle acque superficiali e sotterranee.
Inoltre, è particolarmente indicata per la produzione di acqua ad elevata purezza per l'industria elettronica e l'industria dell'energia elettrica grazie alle sue eccellenti prestazioni nella rimozione di sali solubili, TOC, SiO 2 , ecc.
Funziona a circa due terzi della pressione di esercizio delle normali membrane composite a bassa pressione e raggiunge una reiezione del 99,5%,
che può ridurre i costi di investimento per strutture rilevanti come pompe, tubazioni e contenitori, ecc. e il costo di manutenzione del sistema ad osmosi inversa,
aumentando così l'efficienza economica.
Essendo idonea al trattamento di desalinazione di quelle sorgenti d'acqua con concentrazione salina inferiore a 2000 ppm, come acque superficiali, sotterranee,
di rubinetto e municipali, le membrane della serie UPL sono principalmente utilizzate per numerose applicazioni in vari campi, come pure
acqua, rifornimento di acqua caldaie, lavorazione di prodotti alimentari e produzione farmaceutica

Caratteristiche tecniche:
- Diametro: 4"
- Lunghezza: 40"
- Flusso di permeato: 2400 gpd (9,1 m³/giorno)
- Area membrana: 90 ft².

Condizioni di funzionamento:
- massimo pressione di esercizio: 600 psi (4,14 MPa)
- max. Portata acqua di alimentazione: 16 gpm (3,6 m3/h)
- max. Temperatura dell'acqua di alimentazione: 45 °C
- max. Acqua di alimentazione SDI15: 5.
- max. Durezza totale acqua di alimentazione: 10 ppm (utilizzare antincrostante).
- Intervallo di pH dell'acqua di alimentazione durante il funzionamento continuo: 3~10
- Intervallo di pH dell'acqua di alimentazione durante la pulizia chimica: 2~12
- Cloro residuo Concentrazione dell'acqua di alimentazione < 0,1 ppm max.
- Caduta di pressione del singolo elemento a membrana: 15 psi (0,1 MPa).