MEMBRANA VONTRON LP21-4040 PER OSMOSI INVERSA

Description

VONTRON LP21-4040 MEMBRANA PER OSMOSI INVERSA - LOW PRESSURE

Le membrane della serie LP sono membrane composte in poliammidi aromatiche con proprietà di funzionamento a bassa pressione, di recente sviluppo da Vontron Technology Co., Ltd.
La membrana LP21-4040 permette di raggiungere un elevato flusso di permeato ed una elevata eiezione del sale; trova anche applicazione nella desalinazione delle acque superficiali e sotterranee.
Inoltre, è particolarmente indicata per la produzione di acqua ad elevata purezza per l'industria elettronica e l'industria dell'energia elettrica grazie alle sue eccellenti prestazioni nella rimozione di sali solubili, TOC, SiO 2 , ecc.
Funziona a circa due terzi della pressione di esercizio delle normali membrane composite a bassa pressione e raggiunge una reiezione del 99,5%,
che può ridurre i costi di investimento per strutture rilevanti come pompe, tubazioni e contenitori, ecc. e il costo di manutenzione del sistema ad osmosi inversa,
aumentando così l'efficienza economica.
Essendo idonea al trattamento di desalinazione di quelle sorgenti d'acqua con concentrazione salina inferiore a 10000 ppm, come acque superficiali, sotterranee,
di rubinetto e municipali, le membrane della serie UPL sono principalmente utilizzate per numerose applicazioni in vari campi, come pure
acqua, rifornimento di acqua caldaie, lavorazione di prodotti alimentari e produzione farmaceutica.

Caratteristiche tecniche
- Reiezione: 99,5%*
- Flusso di permeato: 2400 gpd (9,1 m³/giorno)*
- Area membrana: 8.4m²
- Diametro/lunghezza: 4 pollici/40 pollici.
*Condizioni di prova: 2000 mg/l NaCl, 15,5 bar (225 psi), 25 °C (77 °F), pH 7,5, tasso di recupero 15%.

Condizioni di funzionamento:
- max pressione di esercizio: 600 psi (4,14 MPa)
- max portata acqua di alimentazione: 16 gpm (3,6 m3/h)
- max temperatura dell'acqua di alimentazione: 45 °C
- max acqua di alimentazione SDI15: 5.
- max durezza totale acqua di alimentazione: 10 ppm (utilizzare antincrostante).
- intervallo di pH dell'acqua di alimentazione durante il funzionamento continuo: 3~10
- intervallo di pH dell'acqua di alimentazione durante la pulizia chimica: 2~12
- concentrazione di cloro residuo dell'acqua di alimentazione: < 0,1 ppm
- max caduta di pressione del singolo elemento di membrana: 15 psi (0,1 MPa)